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    一种可在真空/不同气氛/空气不同环境下,对样品进行快速热处理的高温炉。

产品特征

      ■ 基于红外卤素钨灯的快速加热技术;

      ■ 升温速率最高可达4800度/分钟; 

      ■ 可在真空/不同气氛/空气等环境下,进行快速热处理; 

      ■ 温度可以编程控制,温控精度高; 

      ■ 内置循环水冷却系统;

      ■ 装样、取样操作方便;

      ■ 集成自动控制系统,软件自动控制


应用领域

    快速热退火 (RTA);快速热氧化 (RTO);快速热氮化 (RTN);硅化 (Silicidation);扩散 (Diffusion);化合物半导体退火 (CSA);离子注入后退火 (IA);电极合金化 (CA);晶向化和坚化 (CD);合金熔点分析;薄膜沉积等

                 

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